EDI超純水處理設備簡介

　　生產半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業用超純水系統。水質可達可達18.3兆歐，符合電子行業生產所需超純水水質要求。我公司曾為國外很多知名電子工業廠家制作工業超純水設備。

　　EDI超純水處理設備工藝

　　預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

　　為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床系統等。

　　1、介質過濾器主要作用是去除源水中的懸浮物質及機械雜質。設備由優質不銹鋼材料制作而成。體內裝有布水帽、精制石英砂等，亦可裝其它填料。合理的石英砂裝填比例及良好的布水系統，使系統的產水水質更加穩定。另外，設備還設有氣體沖刷功能，能比較大限度地清除介質上及床層中的污垢，提高出水水質和延長工作周期。

　　2、活性碳過濾器具有除臭、去色、除油、吸附有機物雜質等作用,能很大程度的去除水中的游離余氯，保證反滲透膜的進水水質，設備由優質不銹鋼材料制成。

　　3、RO主機系統引進上先進的反滲透技術，利用壓力差原理，能有效地去除水中的鹽類，脫鹽率可達到99%左右。

　　4、混床系統采用離子交換技術，內裝陰、陽樹脂，合理的樹脂層高度能有效地保證出水水質滿足用戶要求。

　　水質：水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)

　　材質：鋼襯膠 不銹鋼 有機玻璃等

　　流量(m3/h)：0.1-500

　　應用范圍：半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學試劑;實驗室和中試車間;汽車、家電表面拋光處理;醫藥行業用水。